合肥半導體芯片清洗用水設備/合肥超純水設備

芯片清洗用水概述

芯片清洗用水、半導體封裝用水設備、引線框架、集成電路、lcd液晶顯示器用純水、導電玻璃超純水設備、顯像管、線路板、光駝信、電腦元件、電容元器件等工業用純水。 太陽能硅片純水處理，pcb超純水，半導體led超純水處理設備，電視機純水處理、錄音機水處理，為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、ro反滲透主機系統、均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用plc可編程控制器，**做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

芯片清洗用水的優點

在設備設計上，采用成熟、可靠、、自動化程度高的兩級RO+EDI水處理工藝，確保處理后的超純水水質符合要求，水利用率高，運行可靠，經濟合理。關鍵設備及材料均采用國際主流可靠產品，采用plc+觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

我公司會根據客戶的具體需要設計出合理的清洗設備，再加上我們強大的技術服務團隊，會更好的為客戶解決技術上的問題，想客戶之水想，及客戶之所急，我們會站在客戶的角度，將成本降到**。我們的專業，是您有利的保障。

芯片清洗用水的工藝

1、預處理+陽床+陰床+混床。

2、預處理+(單/雙級)反滲透。

3、預處理+(單/雙級)反滲透+混床。

4、預處理+(單/雙級)反滲透+EDI電除鹽。

芯片清洗用水的技術特點

1、超純水膜

    采用膜表面高分子嫁接技術，產水TOC在20PPB以下，更適用電子級超純水系統。

    高TOC脫除率、高抗污染能力、低TOC溶出率，TOC達標沖洗時間短、配套電源技術，能耗更低。

2、去電子（CDI）技術

    離子交換樹脂再生不需要使用昂貴且有危害的化學品，降低了能源和運行費用、設施的大小要求。

    采用新型均勻述職樹脂包填充，有效提高脫鹽率。

芯片清洗用水的標準

1、ASTM-D5127-2007《美國電子學和半導體工業用超純水標準》

2、歐盟電子級超純水標準

合肥半導體芯片清洗用水設備/合肥超純水設備