馬曼曼：18913180175

超純水設(shè)備性能優(yōu)勢

  EDI水處理裝置性能優(yōu)勢數(shù)不勝數(shù)，其能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，不會因?yàn)闃渲偕Ｖ惯\(yùn)行，設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，超純水設(shè)備在出廠前均需進(jìn)行裝置調(diào)試，所以設(shè)備故障幾率較小，日常保養(yǎng)、維修等操作都非常簡單。

超純水系統(tǒng)內(nèi)部還安置有反滲透預(yù)脫鹽技尸再次從根本上行保障了設(shè)備的出水水質(zhì)，與此同時，EDI處理裝置廢水產(chǎn)出量少，不會對環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益，其發(fā)展前景廣闊。

超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。 我公司超純水設(shè)備出水水質(zhì)**符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

超純水系統(tǒng)前景。 清洗行業(yè)超純水設(shè)備內(nèi)部還安置有反滲透預(yù)脫鹽技尸再次從根本上行保障了設(shè)備的出水水質(zhì)，與此同時，EDI處理設(shè)備廢水產(chǎn)出量少，不會對環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益，其發(fā)展前景廣闊。