雙電子束蒸發(fā)鍍膜機 OTFC-1800CBI/DBI

機械特點：

真空室尺寸：Φ600-1800mm

60點/80點式光學膜厚監(jiān)控

使用均勻分布的高離子電流密度的離子源

搭載雙電子槍，多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上

利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動蒸鍍過程

工件架可選擇鐘罩式或行星式

排氣系統(tǒng)可選擇擴散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵

設備尺寸：

設備型號 OTFC-1800CBI/DBI

真空室 SUS304, φ1800mm×1920mm (H)

工件架 φ1600mm

工件架轉(zhuǎn)速 10rpm to 30rpm(可變)

光學膜厚控制 HOM2-R-VIS3**光學膜厚監(jiān)控儀

波長范圍：350nm to 1100n

反射式或透射式

石英晶振膜厚計 XTC/3+6點式石英晶體傳感器

蒸發(fā)源 電子槍2套

離子源 23cmRF離子源

排氣系統(tǒng) 機械泵+2個擴散泵+Polycold（或2個冷凝泵）

機械性能：

達到壓力 7.0×10-5 Pa 以下

排氣時間 20分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)

基板溫度 **：350℃

設備尺寸 約5700mm(W)×7700mm(D)×4000mm(H)

工作條件：

電源 3相, 200V, 50/60Hz, 約150kVA

水流量 180升/分以上

空氣壓力 0.5MPa以上

重量 約11200kg

詳情 楊經(jīng)理18103045976/13723521401