工廠轉(zhuǎn)讓一臺(tái)2015年射頻源真空電鍍膜機(jī)1550/1800

設(shè)備尺寸：

設(shè)備名稱 OTFC-1550CBI/DBI

真空室 SUS304, φ1550mm×1800mm (H)

工件架 φ1400mm

工件架轉(zhuǎn)速 10rpm to 30rpm(可變)

光學(xué)膜厚控制 HOM2-R-VIS3**光學(xué)膜厚監(jiān)控儀

波長(zhǎng)范圍：350nm to 1100nm

反射式/透射式

水晶式膜厚計(jì) XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器

蒸發(fā)源 電子槍2套

離子源 17cmRF離子源

機(jī)械性能：

排氣系統(tǒng) 機(jī)械泵+2個(gè)擴(kuò)散泵+Polycold（或2個(gè)冷凝泵）

達(dá)到壓力 7.0×10-5 Pa 以下

排氣時(shí)間 15分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)

基板溫度 **：350℃

工作條件：

設(shè)備尺寸 約5500mm(W)×7200mm(D)×3700mm(H)

電源 3相,200v,50/60Hz, 約120KVA

水流量 180升/分以上

空氣壓力 0.5MPa以上

重量 約10000kg

適用于L ED用光學(xué)薄膜、ITO膜、 反射防止膜、超多層薄膜等各種光學(xué)薄膜形成裝置

 詳情 楊經(jīng)理：18103045976/13723521401