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工廠轉(zhuǎn)讓2臺進(jìn)口光弛真空電鍍膜機(jī)
1：特征
真空室尺寸：Φ600-1800mm60點(diǎn)/80點(diǎn)式
光學(xué)膜厚監(jiān)控使用均勻分布的高離子電流密度的離子源搭載雙電子槍，
多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動蒸鍍過程工件架可選擇鐘罩式或行星式排氣系統(tǒng)可選擇擴(kuò)散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵OTFC-900CBI/DBI真空室SUS304,
2：規(guī)格
φ900mm×1300mm (H)工件架φ 790mm工件架轉(zhuǎn)速10 rpm to 30 rpm (可變)光學(xué)膜厚控制HOM2-R-VIS3**光學(xué)膜厚監(jiān)控儀波長范圍：350nm to1100nm反射式/透射式可選水晶式膜厚計(jì)XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器蒸發(fā)源電子槍2套離子源10cm RF 離子源排氣系統(tǒng)機(jī)械泵+1個(gè)擴(kuò)散泵+Polycold（或1個(gè)冷凝泵）
3：性能
達(dá)到壓力7.0 × 10-5 Pa 以下排氣時(shí)間15 分 (大氣壓 1.3×10-3 Pa)基板溫度**：350℃工作條件設(shè)備尺寸4500mm (W)×5500mm (D)×3200mm (H) approx.電源3相,200v,50/60Hz, 約80KVA水流量180升/分以上空氣壓力0.5MPa 以上重量約5400kg
1：特征
真空室尺寸：Φ600-1800mm60點(diǎn)/80點(diǎn)式光學(xué)膜厚監(jiān)控使用均勻分布的高離子電流密度的離子源搭載雙電子槍，多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動蒸鍍過程工件架可選擇鐘罩式或行星式排氣系統(tǒng)可選擇擴(kuò)散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵規(guī)格設(shè)備名稱
2：規(guī)格
OTFC-1300CBI/DBI真空室SUS304, φ1300mm×1610mm (H)工件架φ1130mm工件架轉(zhuǎn)速10rpm to 50rpm(可變)光學(xué)膜厚控制HOM2-R-VIS3**光學(xué)膜厚監(jiān)控儀
波長范圍：350nm to 1100nm
反射式/透射式水晶式膜厚計(jì)XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器蒸發(fā)源電子槍2套離子源17cmRF離子源排氣系統(tǒng)機(jī)械泵+2個(gè)擴(kuò)散泵+Polycold（或2個(gè)冷凝泵）
3：性能
達(dá)到壓力7.0×10-5 Pa 以下排氣時(shí)間15分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)基板溫度**：350℃工作條件設(shè)備尺寸約5000mm(W)×6500mm(D)×3500mm(H)電源3相,200v,50/60Hz, 約104KVA水流量140升/分以上空氣壓力0.5MPa以上重量約8500kg
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