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深圳市誠峰智造有限公司
主營:等離子清洗機(jī); 等離子表面處理機(jī); 等離子設(shè)備; 真空等離子清洗機(jī); 大氣等離子清洗機(jī); plasma清洗機(jī); 寬幅線性等離子表面處; 等離子處理機(jī); 等離子處理儀; 
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誠峰智造粘盒機(jī)等離子表面處理機(jī)供應(yīng)商

2020年12月12日收藏舉報編輯打印
誠峰智造粘盒機(jī)等離子表面處理機(jī)供應(yīng)商
價格: 面議
起批量: 1 件起批
區(qū)域: 廣東 深圳 寶安區(qū)
關(guān)鍵詞:
等離子清洗機(jī)  等離子表面處理機(jī)  
聯(lián)系人: 蔡 先生 (經(jīng)理)
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詳細(xì)介紹

誠峰智造粘盒機(jī)等離子表面處理機(jī)供應(yīng)商(http://www.sfi-crf.com)

噴射型AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-R&D-XXXD


名稱(Name)


噴射型AP等離子處理系統(tǒng)(Jet type plasma processing system)

等離子電源型號(Plasma power   model)

CRF-APO-R&D-XXXD

電源(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

功率(Power)

600W/25KHz(Option)

功率因素(Power factor)

0.8

處理高度(Processing   height)

5-15mm

處理寬幅(Processing width)

直噴式(Direct jet type):1-6mm(Option)

旋噴式(Potary jet type):20mm~80mm

內(nèi)部控制模式(Internal control mode)

數(shù)字控制(Digital control)

外部控制模式(External conteol mode)

啟停I/O(ON/OFF I/O)

工作氣體(Gas)

Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa)

電源重量(Power weight)

8kg

產(chǎn)品特點(diǎn): 可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節(jié)省客戶使用空間;

可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;

使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制。

應(yīng)用范圍:主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,對技術(shù)的要求越來越高,特別是半導(dǎo)體圓片的表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán)格,主要原因是圓片表面的粒子和金屬雜質(zhì)污染嚴(yán)重影響設(shè)備的質(zhì)量和成品率,在現(xiàn)在的集成電路生產(chǎn)中,圓片表面污染問題,還有50%以上的材料損失。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中,幾乎每個過程都需要清洗,圓片清洗質(zhì)量對設(shè)備性能有嚴(yán)重影響。正因?yàn)閳A片清洗是半導(dǎo)體制造技術(shù)中**重要、**頻繁的步驟,其技術(shù)質(zhì)量直接影響設(shè)備的成品率、性能和可靠性,國內(nèi)外各大公司、研究機(jī)構(gòu)等對清洗技術(shù)的研究不斷進(jìn)行。等離子清洗作為一種的干式清洗技術(shù),具有綠色環(huán)保等特點(diǎn),隨著微電子行業(yè)的快速發(fā)展,等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用也越來越多。

半導(dǎo)體污染雜質(zhì)及分類。

半導(dǎo)體制造需要一些有機(jī)物和無機(jī)物參與完成。此外,由于工藝總是由人們參與凈化室,半導(dǎo)體圓片不可避免地會被各種雜質(zhì)污染。根據(jù)污染物的來源、性質(zhì)等,大致可分為粒子、有機(jī)物、金屬離子和氧化物4種。

顆粒。

粒子主要是聚合物、光刻膠、蝕刻雜質(zhì)等。這種污染物通常主要依靠范德瓦爾斯的吸引力吸附在圓片表面,影響設(shè)備雕刻工序幾何圖形的形成和電學(xué)參數(shù)。這種污染物的去除方法主要用物理或化學(xué)方法切割粒子,逐漸減少與圓表面的接觸面積,**終去除。

有機(jī)物。

有機(jī)物雜質(zhì)的來源比較廣泛,如人的皮膚油脂、細(xì)菌、機(jī)械油、真空油、光刻膠、清洗溶劑等。這種污染物通常在圓形表面形成有機(jī)物薄膜,阻止清洗液到達(dá)圓形表面,圓形表面清洗不,清洗后金屬雜質(zhì)等污染物仍保留在圓形表面。這種污染物的清除通常在清洗過程的**步進(jìn)行,主要用硫酸和過氧化氫水等方法進(jìn)行。

金屬。

半導(dǎo)體技術(shù)中常見的金屬雜質(zhì)有鐵、銅、鋁、鉻、鎢、鈦、鈉、鉀、鋰等,這些雜質(zhì)的來源主要有各種器皿、配管、化學(xué)試劑、半導(dǎo)體圓片加工中,在形成金屬連接的同時,也產(chǎn)生了各種金屬污染。這種雜質(zhì)的去除通常采用化學(xué)方法,通過各種試劑和化學(xué)藥品制成的清洗液和金屬離子反應(yīng),形成金屬離子的結(jié)合物,脫離圓片表面。

氧化物。

半導(dǎo)體圓片在含氧和水的環(huán)境下表面形成自然氧化層。該氧化膜不僅妨礙了半導(dǎo)體制造的許多步驟,還包括金屬雜質(zhì),在一定條件下轉(zhuǎn)移到圓片中形成電氣缺陷。該氧化膜的去除通常用稀氫氟酸浸泡。

等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體晶圓清洗技術(shù)中的應(yīng)用等離子清洗技術(shù)簡單,操作方便,無廢棄物處理和環(huán)境污染等問題。但是,它不能去除碳和其他非揮發(fā)性金屬或金屬氧化物。等離子體清洗常用于光刻膠的去除技術(shù),在等離子體反應(yīng)系統(tǒng)中加入少量氧氣,在強(qiáng)電場的作用下,使氧氣產(chǎn)生等離子體,使光刻膠迅速氧化成揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)。該清洗技術(shù)具有去膠技術(shù)操作方便、效率高、表面清潔、無損傷、有利于確保產(chǎn)品質(zhì)量等優(yōu)點(diǎn),不使用酸、堿、有機(jī)溶劑等,越來越受到重視。

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